半导体行业常用化学品

1.     铝蚀刻液、铬蚀刻液、镍银蚀刻液

        此类AG九游会APP·产品主要应用于晶圆上金属层的蚀刻制成，能形成以光刻对应的图像

2.     硅蚀刻液、混合酸3F、混合酸4F

        此类AG九游会APP·产品主要应用于硅片的腐蚀制程，用于硅片的减薄及图形刻蚀等功能

3.     氟化铵溶液

        氟化铵溶液应用于硅片表面氧化物的清洗，同时对硅片表面无腐蚀

4.     显影液（正胶显影液、负胶显影液）

        显影液应用于PR经曝光后的显影制程

5.     剥离液

        剥离液应用于PR的去除制程，无PR残留且对其他结构无腐蚀作用

6.     单品类

        定制化提供过氧化氢（H₂O₂）、硫酸（H₂SO₄）、盐酸（HCl）、硝酸（HNO₃）、磷酸（H₃PO₄）、氢氟酸（HF）、冰乙酸（CH₃COOH）、氢氧化铵（NH₄·OH）、乙醇（C₂H₅OH）、异丙醇（CH₃CHOHCH₃）、丙酮（(CH₃)₂CO）等服务；此类AG九游会APP·产品应用于 SC1、SC2清洗液的配制、不同制程的清洗等